山东耀智Lighthouse指定代理商,主营:尘埃粒子计数器,浮游菌采样器等产品

网站首页 > 新闻资讯 > 耀智资讯

半导体制造中的压缩气体及其高压扩散器

2024-05-27 14:46:21 山东耀智信息科技有限公司 阅读

QQ截图20240527143622.jpg


了解高压扩散器

高压扩散器(HPD)对于保持压缩气体样品中颗粒计数的精度至关重要。它们充当颗粒计数器和压缩气体管线之间的纽带,在气体进入颗粒计数器的样品入口时使其扩散。这确保了压力得到控制,以防止对颗粒计数器样品室的敏感内部传感器组件造成任何损坏。


高压扩散器的类型

HPD主要有两种类型:排气回流和排气端口排气回流HPD将气体释放到环境中,而排气端口 HPD则将气体安全地排出测试区域外。这些类型之间的选择取决于所采样的气体。排气回流HPD适用于氧气等无害气体,而排气回流和排气端口 HPD通常用于易燃气体等危险气体。


设置 HPD

正确安装 HPD 对于准确取样至关重要。它涉及在压缩气体管路和粒子计数器之间牢固地连接 HPD,确保紧密的配件和正确的气流方向。任何泄漏或不正确的配件都可能损害取样过程的完整性。


微调流速

需要注意的另一件重要事情是,您需要达到正确的流速以确保您的采样结果。将粒子计数器的流速与HPD相匹配,确保等动力学采样,气流保持恒定。可能需要根据进气压力进行调整,参考表格作为指导可以帮助优化流速以实现准确采样。


测试气体在半导体制造中

的重要性

在半导体制造中,精度至上,每个元素都起着至关重要的作用。压缩气体是该行业的无名英雄之一,它默默地促进了使集成电路 (IC) 栩栩如生的复杂过程。


让我们深入研究它们不可

或缺的应用:

沉积工艺:硅烷、氨气和掺杂剂气体可实现化学和物理气相沉积,形成对 IC 制造至关重要的薄半导体层。

蚀刻:SF6 和 NF3 等气体通过等离子体和反应离子蚀刻在晶圆上蚀刻复杂的图案,精确地去除不需要的材料。

掺杂:二硼烷、磷化氢和砷化氢等掺杂气体会改变半导体材料的电性能,从而产生关键的 p 型或 n 型区域。

吹扫和清洁:高纯度氮气和氩气吹扫室,可防止污染并确保一致、无污染的条件。

冷却和温度控制:某些气体在制造过程中调节温度,防止热应力引起的缺陷。

气氛控制:惰性气体可稳定制造环境,保持工艺完整性并防止不必要的反应。

离子注入氩气和三氟化硼等气体有助于离子注入,从而精确地改变底物特性。

光刻支持:压缩气体可保持清洁、稳定的环境,并有助于气动系统,这对于光刻过程中的精确机械运动至关重要。

在半导体制造的复杂舞蹈中,压缩气体是无声的编排者,精确地编排每一步——它们的特殊用途需要严格控制纯度和条件,以满足 ISO 8573 的严格标准,使其成为当今现代 IC 创建不可或缺的一部分。


结论

高压扩散器乍一看似乎很复杂,但了解它们的重要性和正确使用对于准确的颗粒计数至关重要。通过选择合适的 HPD 类型、正确设置并微调流速,您将能够轻松确保气体采样工作中获得可靠和精确的结果。